플라스마 기술을 적용해 입자가 고운 이트륨 옥사이드(왼쪽)와 일반 제품/사진=국가핵융합연구소 제공

[우성훈 기자] 정부출연 연구기관과 민간 기업이 협력해 전량 일본에서 수입하던 반도체 공정 코팅 소재를 국산화하는 데 성공했다.

국가핵융합연구소(핵융합연)는 미세 분말 상태에서도 뭉치지 않는 용사 코팅 소재 ‘이트륨 옥사이드’를 국내 기업과 함께 최초로 제조했다고 29일 밝혔다.

이트륨 옥사이드는 반도체 공정 장비에 필요한 소재로, 국내 반도체 제조사가 일본에서 모두 수입해 쓰고 있는 재료이다. 

용사 코팅은 분말 상태의 재료를 반도체 부품 표면에 뿌려 입히는 기술로, 내열.내구성을 높이는 과정이다. 

일본 것보다 품질이 우수한 이트륨 옥사이드 설명도/사진=국가핵융합연구소 제공

우리나라에서 만든 이트륨 옥사이드는 핵융합연의 플라스마 기술을 적용했다. 분말끼리 서로 밀어내는 반발력이 생겨 응집되지 않고 흐름을 좋게 만들 수 있어 치밀하고 균일한 코팅막을 형성할 수 있다고 핵융합연은 설명했다.

25㎛(1㎛는 1천분의 1㎜) 이하 크기에서 고품질의 용사 코팅을 실현할 수 있다. 제품 수준은 일본 것보다 우수하고 입자 크기나 유동도 측면에서 일본산을 뛰어넘는다고 핵융합연은 강조했다.

기술 개발을 주도한 국가핵융합연구소 홍용철 박사는 “플라스마 기술은 반도체 공정 말고도 다양한 소재 산업에 활용할 수 있다”면서, “이를 활용한 소재 기술 국산화 연구를 지속할 계획”이라고 말했다.