[박광준 기자] 반도체 세정 장비 기술을 중국으로 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 세메스 전 연구원이 항소심에서 형량이 늘어났다.

수원고법 형사2-3부(이상호 왕정옥 김관용 고법판사)는 9일 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률, 부정경쟁 방지 및 영업 비밀 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 세메스 전 연구원 A 씨의 항소심에서 징역 4년을 선고한 원심을 깨고 징역 5년을 선고했다.

또, A 씨가 세메스에서 퇴직한 뒤 설립한 반도체 장비제조업체 법인에 대해서도 원심이 판결한 벌금 10억 원을 파기하고 벌금 15억 원을 내라고 선고했다.

이 밖에도 재판부는 범행에 가담한 세메스 협력사 직원 등 6명에게도 징역 2∼4년을 각각 선고했다. 이들 가운데 가담 정도가 경미한 세메스 전 직원 1명에 대해서만 3년간 형을 집행유예했다.

재판부는 "피고인들이 유출한 반도체 세정 장비 기술은 피해 회사가 다년간 연구하고 개발해 얻어낸 성과로 일부는 국가핵심기술"이라면서, "이런 범죄를 가볍게 처벌한다면 기업들로서는 오랜 기간 기술 개발에 매진할 동기를 잃게 된다"고 양형 이유를 설명했다.

A 씨 등은 2018년 3월부터 2021년 12월까지 3년여간 세메스의 영업비밀인 반도체 세정 장비 기술을 부정 취득해 장비 24대를 만들고 이 가운데 710억 원 상당의 장비 14대를 중국 경쟁업체 또는 반도체 연구소에 넘긴 혐의로 기소됐다.

A 씨는 국가핵심기술인 '초임계 반도체 세정 장비' 제조 기술을 중국에 유출한 혐의로도 재판을 받았다. 이에 대해서 법원은 원심과 같이 징역 5년에 벌금 5억 원을 선고했다.